第2031章

1972年，武漢無線電元件三廠編寫的《光刻掩模版的製造》，並成功研發GK-3和GK-4，把加工圓片直徑從50毫米提高到75毫米。

而清華大學研製第四代分步式投影光/刻機，並在1980年獲得成功，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平，1982年科學院研發KHA-75-1光/刻機，跟當時佳能相比最多也就不到4年。

隻不過這一切都在80年代戛然而止，隨著國家政策全麵轉向經濟建設，大量優秀的